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搜索结果: 1-15 共查到电子科学与技术 膜相关记录111条 . 查询时间(0.578 秒)
2024年9月30日,中国科学技术大学微电子学院特任教授孙海定iGaNLab课题组开发了一种具有光能量自监测、自校准、自适应能力的三维垂直集成深紫外发光器件阵列,并将它们成功应用于新型无掩膜深紫外光刻技术中。该研究首次提出将深紫外微型发光二极管(micro-LED)阵列作为光源应用于无掩膜深紫外光刻技术。在被广泛应用于集成电路芯片制造的步进式光刻机技术之外,本技术提出利用每颗micro-LED具有...
石墨烯导热膜是电子器件和系统重要的热管理材料。近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所纳米材料与器件实验室丁古巧团队在石墨烯导热膜尺寸效应研究方面取得重要进展。通过建立亚微米-微米氧化石墨烯原料横向尺寸与导热膜热导率之间的联系,该工作深化了3000 ℃ 高温下氧化石墨烯组装体还原重组过程的理解,为组装石墨烯等二维材料构建高性能宏观体提供了新思路。
本发明涉及一种高温厚膜热敏电阻的制备方法,该方法是将硝酸镧、乙酸锰和硝酸铝分别溶解在冰醋酸中,得到纯清溶液,将溶液蒸发得到凝胶,再将凝胶加热、高温晶化,得到热敏粉体,再将热敏粉体和乙基纤维素按照一定的质量比混合、研磨,再将研磨好的粉体和松油醇混合、搅拌得到均匀的厚膜浆料,最后将浆料印刷在Al2O3衬底上、热处理,得到厚膜热敏电阻。制得热敏电阻样品膜厚为25μm,满足电子设备结构的微型化要求,而在8...
中国科学院合肥物质科学研究院专利:一种双电容厚膜陶瓷感压元件的制备方法
中国科学院高能物理研究所专利:一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法
中国科学院国家纳米科学中心专利:一种用于光刻技术的无机热阻膜
中国科学院国家纳米科学中心专利:一种用于光刻技术的无机热阻膜
中国科学技术大学教授徐铜文/杨正金团队与合作者,针对离子膜普遍存在的“传导性-选择性”相互制约关系,提出了一类新型三嗪框架聚合物离子膜。基于刚性通道的限域效应和通道内的“离子配位”机制,这类膜材料展示出近无摩擦的离子传递,实现了水系有机液流电池快充,且电池充放电电流密度达到500 mA/cm2,是当前普遍报道值的5倍以上。2023年4月26日,相关研究成果以《三嗪框架聚合物膜内近无摩擦的离子传导》...
近期,中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室与上海理工大学合作在新型介质膜配向液晶相位延迟器件的研究取得进展。采用倾斜沉积介质膜对液晶进行配向,与基于传统聚酰亚胺薄膜配向的可调相位延迟器件进行了抗激光损伤等性能的比较研究,为介质膜配向的液晶器件在高功率激光系统中的实际应用提供了指导,相关研究成果以“Comparative study of liquid crystal variable r...
光栅是光学和光电系统的核心构造单元之一。光栅元件的周期决定着系统的色散和分辨率性能。随着现代光学技术的发展,尤其是同步辐射和自由电子激光等大型X射线科学装置的发展,高分辨率X射线谱学技术对超小周期纳米光栅元件的要求越来越高。传统自上而下的纳米制备技术(包括光刻和电子束直写等)难以实现大面积亚百纳米周期光栅元件的制备,限制了X射线光谱探测分辨率的进一步提升和凝聚态物理中相关科学的发展。针对上述问题,...
西安电子科技大学微电子封装技术课件 混合集成厚膜技术。
近来,通过机械剥离成薄层的过渡族金属硫化物,作为超越石墨烯的候选材料,已成为国际研究的热点,其中强自旋轨道耦合的二维晶体超导体,为人们探索新奇量子现象提供了一个广阔的平台,如拓扑超导态的探索等。有报道指出,在单层NbSe2薄片和栅极调制的MoS2中,面内中心反演对称性的破缺产生了塞曼自旋轨道耦合保护的超导电性(Zeeman-protected superconductivity)。塞曼保护超导体系...
上海交通大学密西根学院但亚平课题组研究发现,自组装单分子膜掺杂会在硅衬底引入碳缺陷,从而降低硅中磷杂质的电学激活率。研究人员由此提出了自组装单分子膜掺杂技术的研究方向,为发展无缺陷态的单分子膜掺杂技术奠定了基础。相关成果日前发表于《自然—通讯》杂志。传统的离子注入掺杂依赖高能离子轰击半导体晶体实现,半导体晶体常遭到破坏。其电学性能因此恶化,而且杂质原子在半导体内随机分布,无法满足当前先进集成电路制...
2017年10月9日,浙江农林大学理学院陈亮博士以第一作者身份,在《自然》杂志上发表了题为《通过阳离子控制层间距实现氧化石墨烯膜的离子筛选》的学术论文。该论文提出并实现了用水合离子自身精确控制石墨烯膜的层间距,展示了其出色的离子筛分和海水淡化性能,并用理论计算、上海光源的X射线小角散射(BL16B1)和精细吸收谱(BL14W1)实验阐明了机理。相关研究成果,解决了氧化石墨烯膜在水处理、离子/分子分...

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