搜索结果: 1-15 共查到“电子技术 膜”相关记录46条 . 查询时间(0.536 秒)
中国科学院上海微系统与信息技术研究所在石墨烯导热膜尺寸效应研究方面取得进展（图）
导热膜 电子器件 纳米材料
2024/8/20
石墨烯导热膜是电子器件和系统重要的热管理材料。近日，中国科学院上海微系统与信息技术研究所纳米材料与器件实验室丁古巧团队在石墨烯导热膜尺寸效应研究方面取得重要进展。通过建立亚微米-微米氧化石墨烯原料横向尺寸与导热膜热导率之间的联系，该工作深化了3000 ℃ 高温下氧化石墨烯组装体还原重组过程的理解，为组装石墨烯等二维材料构建高性能宏观体提供了新思路。
中国科学院新疆理化技术研究所专利：一种高温厚膜热敏电阻的制备方法
中国科学院新疆理化技术研究所 专利 厚膜 热敏电阻
2024/1/15
本发明涉及一种高温厚膜热敏电阻的制备方法，该方法是将硝酸镧、乙酸锰和硝酸铝分别溶解在冰醋酸中，得到纯清溶液，将溶液蒸发得到凝胶，再将凝胶加热、高温晶化，得到热敏粉体，再将热敏粉体和乙基纤维素按照一定的质量比混合、研磨，再将研磨好的粉体和松油醇混合、搅拌得到均匀的厚膜浆料，最后将浆料印刷在Al2O3衬底上、热处理，得到厚膜热敏电阻。制得热敏电阻样品膜厚为25μm，满足电子设备结构的微型化要求，而在8...
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种双电容厚膜陶瓷感压元件的制备方法
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 双电容 厚膜陶瓷 感压元件
2023/11/28
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种双电容厚膜陶瓷感压元件的制备方法
中国科学院上海应用物理研究所专利：膜生物反应器沉浸式平片滤膜元件
中国科大等实现微孔框架离子膜内近似无摩擦的离子传导（图）
微孔框架 离摩擦 离子传导
2023/5/18
中国科学技术大学教授徐铜文/杨正金团队与合作者，针对离子膜普遍存在的“传导性-选择性”相互制约关系，提出了一类新型三嗪框架聚合物离子膜。基于刚性通道的限域效应和通道内的“离子配位”机制，这类膜材料展示出近无摩擦的离子传递，实现了水系有机液流电池快充，且电池充放电电流密度达到500 mA/cm2，是当前普遍报道值的5倍以上。2023年4月26日，相关研究成果以《三嗪框架聚合物膜内近无摩擦的离子传导》...
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室与上海理工大学合作在新型介质膜配向液晶相位延迟器件的研究取得进展。采用倾斜沉积介质膜对液晶进行配向，与基于传统聚酰亚胺薄膜配向的可调相位延迟器件进行了抗激光损伤等性能的比较研究，为介质膜配向的液晶器件在高功率激光系统中的实际应用提供了指导，相关研究成果以“Comparative study of liquid crystal variable r...
西安电子科技大学微电子封装技术课件 混合集成厚膜技术。
SHMFF用户在超薄单晶铅膜界面超导研究中获进展（图）
SHMFF用户 单晶铅膜界面超导 二维晶体超导体 超导电性
2018/4/19
近来，通过机械剥离成薄层的过渡族金属硫化物，作为超越石墨烯的候选材料，已成为国际研究的热点，其中强自旋轨道耦合的二维晶体超导体，为人们探索新奇量子现象提供了一个广阔的平台，如拓扑超导态的探索等。有报道指出，在单层NbSe2薄片和栅极调制的MoS2中，面内中心反演对称性的破缺产生了塞曼自旋轨道耦合保护的超导电性（Zeeman-protected superconductivity）。塞曼保护超导体系...
中国科学家成功实现氧化石墨烯膜的离子筛选
中国科学家 氧化石墨烯膜 离子筛选
2017/10/12
2017年10月9日，浙江农林大学理学院陈亮博士以第一作者身份，在《自然》杂志上发表了题为《通过阳离子控制层间距实现氧化石墨烯膜的离子筛选》的学术论文。该论文提出并实现了用水合离子自身精确控制石墨烯膜的层间距，展示了其出色的离子筛分和海水淡化性能，并用理论计算、上海光源的X射线小角散射（BL16B1）和精细吸收谱（BL14W1）实验阐明了机理。相关研究成果，解决了氧化石墨烯膜在水处理、离子/分子分...
涡旋光辐照多层介质膜温升的模拟
涡旋光 多层介质膜 热传导
2016/9/2
搭建了涡旋光在多层介质膜中的传输模型，分析了涡旋光垂直入射下膜系内的温升分布。结果表明，膜系内的温升分布与涡旋光入射面密切相关。当涡旋光在初始面入射时，膜系的温升区域集中在入射中心。当涡旋光在空间中传输一定距离后再入射膜系时，膜系温升区域向入射中心的两侧发散，且最大温升大于初始面入射时的温升。当传输距离足够远时，膜系最大温升随传输距离的增加而减小。另外，在一定传输距离内，膜系最大温升随拓扑荷数的增...
原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究
原子光刻 光学掩膜 异形光束 几何光学
2016/8/23
利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用，利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制，从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高，光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波...
掩膜电镀法制备圆片级封装重布线中孔洞形成机理研究
电镀铜 孔洞 退火
2017/1/16
在圆片级封装电镀铜重布线工艺中通常使用退火的方法促进铜晶粒生长、使电阻减小.而作为电镀铜种子层的溅射铜表面存在的微小裂纹通常会造成电镀液无法进入，从而使电镀铜和溅射铜界面出现孔铜，这类界面缺陷将影响后续高温退火过程中铜晶粒的生长，并导致电镀铜电阻增大.为研究此问题，本文尝试在电镀铜前轻微腐蚀溅射铜种子层，使裂纹尺寸变大，电镀液得以进入裂纹，并电镀填充裂纹形成无孔洞的电镀铜；此外若在电镀铜后在电镀铜...
防离子反馈膜粒子阻透率随环境温度变化的模拟研究
防离子反馈膜 电子透过率 离子阻挡率 环境温度
2016/8/17
覆有防离子反馈膜的微通道板是第三代微光像增强器的核心部件之一。真空高温烘烤除气过程对防离子反馈膜粒子阻透特性会产生破坏性的影响。文中利用分子动力学方法模拟计算并得到Al2O3 薄膜的膜层密度随环境温度的变化规律。利用蒙特卡洛方法模拟计算了Al2O3 薄膜的电子透过率和离子阻挡率随入射粒子能量的变化曲线。得到Al2O3 薄膜的死电压在235 V 左右，同时得出防离子反馈膜离子阻挡率在入射离子能量降低...
22nm光刻的掩膜版刻蚀系统.doc（图）
光刻 蚀系统
2011/10/31
Applied Centura Tetra X先进掩膜版刻蚀系统是业界唯一的能够满足22nm及以下最具挑战性的器件层掩膜版刻蚀需求的系统，这套系统由应用材料公司业内标准的Tetra III平台扩展而成，在所有的特征尺寸上突破了2nm的CD均匀性的壁垒。